| 英文(wén)名稱 | (4-(tert-butyl)pheny ✔•l)diphenylsulfonium,2,4"α☆,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonatβ→♠e(1:1) |
|---|---|
| 中文(wén)名稱 | 電(diàn)子(zǐ)級 (4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-φ§♠三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1) |
| CAS号 | 0-0-YH84015 |
| 産品編号 | YH84015 |
| 分(fēn)子(zǐ)式 | C37H46O3S2 |
| 分(fēn)子(zǐ)量 | 602.29 |
電(diàn)子(zǐ)級(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度锍鹽化(huà)合物(w≠λ♦♦ù),結合了(le)三芳基锍陽離(lí)子(zǐ)的(de)優異±₩×↓光(guāng)敏性和(hé)特殊苯磺酸鹽的(de)強酸穩定性↓πφ★。該産品具有(yǒu)出色的(de)光(guāng)敏性> &能(néng)和(hé)化(huà)學穩定性,廣泛用(y✘ ♥σòng)于高(gāo)端半導體(tǐ)和(hé)微(wēi)電(diàαγαn)子(zǐ)制(zhì)造中的(de)光(guān↔♠g)刻膠及相(xiàng)關領域。
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[基本信息]
中文(wén)名稱:(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)
英文(wén)名稱:(4-(tert-butyl)pheny γl)diphenylsulfonium,2,ε≠♦4,6-tris(1-methylethπ₽£→yl)benzenesulfonate(1:1)
分(fēn)子(zǐ)式:C37H46O3S2
分(fēn)子(zǐ)量:602.29 g/mol
外(wài)觀:淺黃(huáng)色至白(bε≈↕ái)色粉末或晶體(tǐ)。
純度:≥99.9%,符合電(diàn)子(zǐ)級标準。
溶解性:
(1)溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑,如(rú)乙腈、二氯甲烷。↑λ
(2)對(duì)水(shuǐ)不(bù)溶,表現(xiàn)出較高(gāo₹ )的(de)疏水(shuǐ)性。
熱(rè)穩定性:在高(gāo)溫條件(jiàn)下(xià)(最高(gāo)♥♦£250-300°C)仍能(néng)保持化(huà)學穩定性。
光(guāng)敏特性:在紫外(wài)光(guāng)激發下(xià)表現®↓(xiàn)出優異的(de)反應性能(néng)。
[應用(yòng)領域]
光(guāng)刻膠配方
(1)用(yòng)于深紫外(wài)(DUV)和(hé)極紫外(wài)(EUV)光(guāng)刻技(jì)術(shù),提高(gāo)分(fēn)辨率和(φπ±hé)顯影(yǐng)對(duì)比度。
(2)提升光(guāng)刻膠的(de)曝光(guāng)靈敏度,滿足納米級 ∞微(wēi)圖形制(zhì)造需求。
微(wēi)電(diàn)子(zǐ)與半導體♥✔(tǐ)制(zhì)造
(1)應用(yòng)于幹法蝕刻技(jì)術(shù),支持高(↕∑>gāo)精度微(wēi)納加工(gōng)。
(2)作(zuò)為(wèi)化(huà)學放(fàng₽")大(dà)光(guāng)刻膠的(de)重要(yào)光(α≤guāng)敏劑,提高(gāo)光(guān★♣g)刻工(gōng)藝效率。
高(gāo)性能(néng)材料研發
(1)用(yòng)于制(zhì)備具有(y→ ǒu)耐高(gāo)溫和(hé)抗化(hu←≠∞÷à)學腐蝕的(de)功能(néng)薄膜。
(2)支持高(gāo)端顯示設備、新能(néng)源器(qì)件(jiànΩ"∑)及微(wēi)電(diàn)子(zǐ)封裝的(de♥≠↓σ)精密制(zhì)造。
優勢
本産品憑借其優異的(de)光(guāng)敏性能(néng)、高(gāΩ£o)純度及熱(rè)化(huà)學穩定性,為(wèi"←>δ)半導體(tǐ)制(zhì)造工(gōng)藝提供關鍵支持,∞适用(yòng)于苛刻環境下(xià)的(de)高(gāo)精度制(zh≤>¶™ì)造需求。