電(diàn)子(zǐ)級 (1,3-二氧異吲γ®♦₩哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯

電(diàn)子(zǐ)級(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯是(shì)一(yī)種高(gāo)純度的(de)有(yǒu)機(jī)化(huà)™¶♣β學品，廣泛應用(yòng)于電(diàn)子(zǐ)制♦©(zhì)造行(xíng)業(yè)，特别是(♥™✘≤shì)在半導體(tǐ)光(guāng)刻膠和(hé)微(wēi ≠)電(diàn)子(zǐ)領域中。其分(fēn)子(zǐ)×♦©結構中的(de)三氟甲磺酸基團具有(yǒu)強酸性，使≥φ₩得(de)該化(huà)合物(wù)在光(guāng≤π±♦)刻膠中能(néng)夠作(zuò)為(wèi)高(gāo)效的(de)λ÷₩光(guāng)酸生(shēng)成劑，促進光(guāng)刻反應↓δ的(de)進行(xíng)。這(zhè)種化(huà)合物(wù)不(bù)僅→φ具備優異的(de)化(huà)學穩定性，還(hái)能(néng₩₽)在嚴格的(de)電(diàn)子(zǐ)級要(yào)求下(xià)，确$≥™'保光(guāng)刻膠的(de)分(fēn)辨率、敏感度和(hσ ←é)穩定性，滿足現(xiàn)代半導體(tǐ)制(zhì)造的(de)₹¶α需求。

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【基本信息】

中文(wén)名稱：(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯

英文(wén)名稱：(1,3-dioxoiso∏×indolin-2-yl)methyl trifluorometh₹←✘☆anesulfonate

分(fēn)子(zǐ)式：C₁₀H₆F₃NO₅S

分(fēn)子(zǐ)量：308.99

外(wài)觀：白(bái)色至微(wēi)黃(huáng)色固&‌體(tǐ)

溶解性：易溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑，如(rú)二甲基亞硫酰胺（DMS'∏±&O）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）等，溶解度較低(dī)于水(shuǐ)

熔點：約130℃（分(fēn)解）

分(fēn)解溫度：＞250℃

儲存條件(jiàn)：在幹燥、陰涼的(de)環境下(xià∞✘Ω)存放(fàng)，避免陽光(guāng)直射，溫度建議(yσδ$ì)低(dī)于30℃

【應用(yòng)領域】

光(guāng)刻膠材料

作(zuò)為(wèi)一(yī)種光(guāng)酸生(shēng)成劑>β，(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯能(néng)夠在光(guāng)刻膠中通(tōng)過光±₹©(guāng)照(zhào)引發強酸的(de)生(shēσ€≤★ng)成，優化(huà)光(guāng)刻膠♥‍∑≥的(de)性能(néng)。

（1）适用(yòng)于先進的(de)半φσ£導體(tǐ)光(guāng)刻膠配方，特别是(shì)ArF（氟化Ω π☆(huà)氩）和(hé)EUV（極紫外(wài)）光(guā ₽‍ ng)刻技(jì)術(shù)。

（2）在高(gāo)精度光(guāng)刻過程中提供優異的(de)分(fēnπ×)辨率和(hé)線條銳度，滿足高(gāo)端芯片制(zhì)造需≠ ₩求。

半導體(tǐ)制(zhì)造

該化(huà)合物(wù)廣泛應用(yòng)于半導體(tǐ)制(zh←≈✘ì)造中的(de)曝光(guāng)工(gōng)藝，能(néng)有'↑©γ(yǒu)效提高(gāo)光(guāng)刻膠的(de)§'曝光(guāng)反應和(hé)圖案轉移效率。

（1）作(zuò)為(wèi)光(guāng)刻膠的(de)增感劑，改↕↕≈ε善圖案的(de)清晰度和(hé)精度。

（2）提高(gāo)微(wēi)結構圖案的(de)對(duì)比>∏λ度和(hé)分(fēn)辨率，确保小(xiǎo)™‌↔尺寸器(qì)件(jiàn)的(de)制(zhì)造。

功能(néng)塗層與其他(tā)電(diàn)子(zǐ)材$<料

除了(le)在光(guāng)刻膠中的(de)應用(yòn ∏♠g)外(wài)，該化(huà)合物(wù)也∑‌∞α(yě)可(kě)用(yòng)于電(diàn)子(zǐ)封裝和(β∑↔hé)功能(néng)塗層材料中，作(zuò)為(wèi)催化(huà)劑和(♣§Ωhé)表面改性劑。

（1）在電(diàn)子(zǐ)封裝中，提供良好‍♣×ε(hǎo)的(de)熱(rè)穩定性和(hé)化(huà)學耐★∏ε受性。

（2）用(yòng)于塗層中，增強材料的(de)$•光(guāng)學性能(néng)和(hé)耐腐蝕↑÷‍性，提升設備的(de)使用(yòng)壽命。