電(diàn)子(zǐ)級(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯是(shì)一(yī)種高(gāo)純度的(de)有(yǒu)機(jī)化(huà) © ÷學品，廣泛應用(yòng)于電(diàn)子(zǐ)✘÷∏ 制(zhì)造行(xíng)業(yè)，特别是(shì)在半導體(tǐ ₽★)光(guāng)刻膠和(hé)微(wēi)電(diàn)子(zǐ)領域中αεσ。其分(fēn)子(zǐ)結構中的(de)三氟甲磺♠φ酸基團具有(yǒu)強酸性，使得(de)該化(huà)合物(wù)在光(g ©σuāng)刻膠中能(néng)夠作(zuò§★€)為(wèi)高(gāo)效的(de)光(guān≈ ★÷g)酸生(shēng)成劑，促進光(guāng)刻反↕™∑應的(de)進行(xíng)。這(zhè)§∑γ✔種化(huà)合物(wù)不(bù)僅具備優↕☆異的(de)化(huà)學穩定性，還(há↑±i)能(néng)在嚴格的(de)電(diàn)₹δ•子(zǐ)級要(yào)求下(xià)，确保光(gu$'↓āng)刻膠的(de)分(fēn)辨率、÷Ω敏感度和(hé)穩定性，滿足現(xiàn)代半導體(tφ¥πǐ)制(zhì)造的(de)需求。
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【基本信息】
中文(wén)名稱：(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯
英文(wén)名稱：(1,3-dioxoisoindolin-2-yl)me∞×₽thyl trifluoromethanesulfδ'αonate
分(fēn)子(zǐ)式：C10H6F3NO5S
分(fēn)子(zǐ)量：308.99
外(wài)觀：白(bái)色至微(wēi)黃(huán₽↓ g)色固體(tǐ)
溶解性：易溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑，如(rú)二甲基亞硫酰胺（DMSφ♥O）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）等，溶解度較∏∏低(dī)于水(shuǐ)
熔點：約130℃（分(fēn)解）
分(fēn)解溫度：＞250℃
儲存條件(jiàn)：在幹燥、陰涼的(de÷€≈)環境下(xià)存放(fàng)，避免陽光 ♠ (guāng)直射，溫度建議(yì)低(dī≤✘)于30℃
【應用(yòng)領域】
光(guāng)刻膠材料
作(zuò)為(wèi)一(yī)種光(g>εuāng)酸生(shēng)成劑，(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯能(néng)夠在光(guāng)刻膠中通(tōng)過光(guāng)照(≈∏¶zhào)引發強酸的(de)生(shēng)成，優化(huà)光(guāng)" Ωπ刻膠的(de)性能(néng)。
（1）适用(yòng)于先進的(de)半導體(tǐ)$☆× 光(guāng)刻膠配方，特别是(shì)ArF（氟¶$© 化(huà)氩）和(hé)EUV（極紫外(wài)）光≥Ω∏(guāng)刻技(jì)術(shù)。
（2）在高(gāo)精度光(guāng)刻過程中提供優異的(de)分(fēn)↔₽↑辨率和(hé)線條銳度，滿足高(gāo)端芯片制(zhì)造需求→ε。
半導體(tǐ)制(zhì)造
該化(huà)合物(wù)廣泛應用(yòng)于半導體(tǐ)制(zhì)造>"中的(de)曝光(guāng)工(gōn™π™$g)藝，能(néng)有(yǒu)效提高(gāo)光(guāng)刻膠的♣δ∞₽(de)曝光(guāng)反應和(hé)σ÷圖案轉移效率。
（1）作(zuò)為(wèi)光(guāng)刻膠的(deΩ₩)增感劑，改善圖案的(de)清晰度和(hé)精度。
（2）提高(gāo)微(wēi)結構圖案的(de)對(duì)比度和(hé)α↕分(fēn)辨率，确保小(xiǎo)尺寸器(qì)件(jiàn)的(de®→ )制(zhì)造。
功能(néng)塗層與其他(tā)電(di¥÷àn)子(zǐ)材料
除了(le)在光(guāng)刻膠中的(↕¶↓de)應用(yòng)外(wài)，該化(huà)合物(wù)也(y' ±ě)可(kě)用(yòng)于電(diàn)子(zǐ)封裝和(hé)功能(né ÷>•ng)塗層材料中，作(zuò)為(wèi)催化(huà)劑和(hé♣π)表面改性劑。
（1）在電(diàn)子(zǐ)封裝中，提供良好(hǎo£↑€)的(de)熱(rè)穩定性和(hé)化(huà)學耐受性。£σφ
（2）用(yòng)于塗層中，增強材料的(de)光(g♦&uāng)學性能(néng)和(hé)耐腐蝕性，提升設備的(dγ e)使用(yòng)壽命。
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