電(diàn)子(zǐ)級三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度的(de)光(©>guāng)緻産酸劑，具有(yǒu)獨特的(d♣"✔e)分(fēn)子(zǐ)結構和(hé)卓越的(÷→de)光(guāng)化(huà)學性能(néng)，↓專為(wèi)高(gāo)端光(guāng)刻工(g±≤≠ōng)藝設計(jì)。該産品在深紫外(wài)（DUV）和(hé)極紫外(wài)（EUV）光(guāng)刻中表現(xiàn)出高(g↓ε↓āo)效的(de)酸生(shēng)成效率，能(©★>←néng)夠顯著提高(gāo)光(guāng)刻膠的(d↓≥≥e)靈敏度和(hé)分(fēn)辨率。其高(§✔♥÷gāo)純度特性使其特别适用(yòng)于半導體(tǐ)制(zhì)造&♦✘中的(de)先進制(zhì)程工(gōng)藝。
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【物(wù)理(lǐ)性質】
基本性質
化(huà)學名稱：三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽
分(fēn)子(zǐ)式：C31H39F3O3S2
分(fēn)子(zǐ)量：580.77 g/mol
外(wài)觀與溶解性
外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色 ∏←粉末或結晶
溶解性：易溶于極性有(yǒu)機(jī)溶劑（如(rú)丙酮、乙腈、 ★φDMF），微(wēi)溶于非極性溶劑
熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)
熔點：約210℃
儲存條件(jiàn)：密封避光(guāng)，低(dī®←)溫儲存（≤25℃），避免濕氣和(hé)氧化(huà)環境
【應用(yòng)領域】
光(guāng)刻膠材料
用(yòng)作(zuò)高(gāo)性能(néng)光(guāng∑ $)刻膠的(de)關鍵光(guāng)緻産酸劑，有(yǒu)助于提升光(guα<δāng)刻圖案的(de)分(fēn)辨率和(hé)邊緣銳度。
（1）在ArF和(hé)KrF光(guāng)刻膠配方中，提供優異的(×¥£♥de)酸生(shēng)成效率。
（2）适配EUV光(guāng)刻膠工(gōng)藝，滿足↓'∏↔半導體(tǐ)先進制(zhì)程需求。
半導體(tǐ)制(zhì)造
在微(wēi)電(diàn)子(zǐ)加工(g✘>ōng)中，優化(huà)光(guāng)刻工(gō™✔βng)藝的(de)顯影(yǐng)效果和(hφé)線寬控制(zhì)能(néng)力。
（1）适用(yòng)于集成電(diàn)路(lù)∑¥≠制(zhì)造中的(de)高(gāo)精度圖案轉移。
（2）支持高(gāo)密度封裝和(hé)小(xiǎo)型化(huà)器(qì)件(↑ jiàn)生(shēng)産，提升加工(gō™≥₽ng)良率。
光(guāng)敏材料研發
用(yòng)于開(kāi)發功能(néng)性光(guāng)敏材料，适配✔®多(duō)種先進電(diàn)子(zǐ)應用(yòng)場(chǎng)景。®¥
（1）提升光(guāng)敏材料的(de)穩定性與靈敏度，優化(h↕$γuà)工(gōng)藝性能(néng)。
（2）滿足顯示器(qì)、傳感器(qì)等領域對(α∑↔>duì)高(gāo)分(fēn)辨率材料的(d☆ε <e)需求。
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