Ethanone,1,1'-[1,3£★±-propanediylbis(oxy-4,1-phenylene)]bi♠>"s[2,2,2-trifluoro-,1,1'-bis[O-(prop←εylsulfonyl)oxime]

電(diàn)子(zǐ)級産酸劑PAG 203是(shì)一(yī)種高(gāo)純度光(g÷ ↓βuāng)緻産酸劑，廣泛應用(yòng)于半導體(tǐ)光(guγαāng)刻膠體(tǐ)系中。其獨特的(de)光(g↑φ‌∑uāng)化(huà)學性能(néng)和(hé)優異的(de)熱(γ∞¥rè)穩定性，使其能(néng)夠在紫外(wài)（UV）至深紫外(wài)（DUV）波段實現(xiàn)高(gāo)效的(de)酸生(shēng)成， φ​☆适配先進光(guāng)刻工(gōng)藝對(δ>duì)高(gāo)靈敏度和(hé)高(gāo)分(f↔​↔ēn)辨率的(de)需求。該産品滿足高(gāo)端電(↕→♣diàn)子(zǐ)材料對(duì)純度和(hé)性能(néng)的‌π‌♣(de)嚴格要(yào)求，是(shì)提升光(guāng)刻←→σ✘膠性能(néng)的(de)關鍵組分(fēn)♠♦£之一(yī)。

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【物(wù)理(lǐ)性質】

基本性質

化(huà)學名稱：PAG 203

分(fēn)子(zǐ)量：662.62 g/mol

分(fēn)子(zǐ)式：C₂₅H₂₈O₈N₂F₆S₂

外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色粉末或晶體(tǐ)

光(guāng)化(huà)學性能(néng)

光(guāng)譜吸收範圍：深紫外(wài)（DUV）至極紫外(wài)（EUV）波段

産酸效率：高(gāo)光(guāng)解效率，酸産量穩定

熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)

熔點：根據結構優化(huà)，通(tōn♠φ•g)常大(dà)于150℃

儲存條件(jiàn)：密封避光(guān∏₽★★g)，低(dī)溫儲存（≤25℃），避免濕氣和(hé)氧化(huà)環境

【應用(yòng)領域】

光(guāng)刻膠制(zhì)備

作(zuò)為(wèi)關鍵的(de)光(guāng)緻産酸劑☆♦♠，PAG 203能(néng)夠在光(guāng)刻膠中顯著提高(gāo‍ )光(guāng)敏性能(néng)。

（1）适用(yòng)于ArF、KrF等DUV光(guāng)刻工(gōng)藝，支持♦& 高(gāo)分(fēn)辨率納米級圖案制(zhì)造。

（2）在EUV光(guāng)刻中表現(xiàn)出優異的(de)酸生(s↓↓hēng)成效率，提升膠體(tǐ)顯影(yǐng)性能(néng)。

微(wēi)電(diàn)子(zǐ)加工(gōng)<↑₩

廣泛應用(yòng)于集成電(diàn)路(lù)制(zh¥←π ì)造中的(de)高(gāo)精度圖案轉移工(gōng)藝。≠‌↔

（1）優化(huà)器(qì)件(jiàn)線寬控制(zhì)，滿足高(gā•≠☆o)密度集成電(diàn)路(lù)需求。

（2）提升曝光(guāng)和(hé)顯影(yǐεε&ng)過程中的(de)圖形清晰度與穩定性。

特殊電(diàn)子(zǐ)材料開(kāi)發

在功能(néng)性光(guāng)刻材料和&​(hé)敏化(huà)劑的(de)研發中，PAG 203是(shì)重要(yào)原料。

（1）應用(yòng)于光(guāng)刻膠配方優化(hu♣₩à)，提升材料化(huà)學惰性與穩定性。↕↑ '

（2）适配顯示器(qì)、傳感器(qì)等領域的(de)高(gāo)性能α ←¥(néng)電(diàn)子(zǐ)材料需求。