電(diàn)子(zǐ)級1-(2-氧代-2-苯乙基)四氫噻吩鎓1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷磺酸鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度光(guāng)敏化(huà)合物(wΩ♠>ù)，廣泛應用(yòng)于光(guāng)刻膠材料及微(wēi)電(di >πγàn)子(zǐ)加工(gōng)領域。其分(•♣fēn)子(zǐ)設計(jì)結合了(le)噻吩鎓離(lí)子(zǐ)☆¶的(de)優異化(huà)學穩定性與九氟丁烷磺酸根的(de)強親電(≥←"diàn)性，能(néng)夠在光(guāng)刻過程中生(shēng≠↕"≥)成高(gāo)活性的(de)酸，滿足高γ©©♦(gāo)分(fēn)辨率和(hé)低(dī)缺陷率的(de)生(s™≤hēng)産需求，是(shì)先進制(zhì)程光(guāng)刻工÷≠(gōng)藝中的(de)重要(yào)助劑。
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【物(wù)理(lǐ)性質】
基本性質
化(huà)學名稱：1-(2-氧代-2-苯乙基)四氫噻吩鎓1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷磺酸鹽
分(fēn)子(zǐ)式：C16H15F9O4S2
分(fēn)子(zǐ)量：506.4 g/mol
外(wài)觀與溶解性
外(wài)觀：白(bái)色至淺黃(huáng)色粉末或晶體σ↕•(tǐ)
溶解性：易溶于乙腈、丙酮等有(yǒu)機(jī)溶劑，不(bù)溶于水(™∞±♠shuǐ)
熱(rè)穩定性與儲存條件(jiàn)
熔點：約160℃
儲存條件(jiàn)：密封避光(guān'ε£g)儲存，建議(yì)溫度範圍為(wèi)0-10℃，防止受潮和(hé)分(fēn)解
【應用(yòng)領域】
光(guāng)刻膠材料
作(zuò)為(wèi)光(guāng)刻膠的(<de)産酸劑，在紫外(wài)（UV）和(hé)深紫外(wài)（DUV）光(guāng)刻工(gōng)藝中具有(yǒ£₩λ®u)卓越性能(néng)。
（1）提高(gāo)光(guāng)刻膠的(de)光(guā™✘Ωng)敏響應速度和(hé)顯影(yǐng)精度。
（2）改善光(guāng)刻圖案的(de)清晰度和(hé)邊緣直線性。✔≠φ§
半導體(tǐ)制(zhì)造
用(yòng)于先進制(zhì)程工(gōng)藝（↕ε≥©如(rú)EUV和(hé)高(gāo)精度UV光(guāng)刻）中，支持微(wēi)米及亞微(wēi)§↑γ米級圖案轉移。
（1）優化(huà)刻蝕過程中的(de)酸生(shē< ∏₹ng)成效率，提高(gāo)工(gōng)藝一(↕♦yī)緻性。
（2）适用(yòng)于晶圓、封裝等關鍵領域的(de)精密制(zhì)造。
功能(néng)性塗層與光(guāng)敏±≠材料
在高(gāo)分(fēn)辨率顯示面闆和(hé)傳感器(§"₩£qì)的(de)制(zhì)造中，提供穩定的(de)化(hα♠☆uà)學與光(guāng)學性能(néng)。
（1）增強塗層材料的(de)光(guāng)敏特性，滿§®$足多(duō)種精密加工(gōng)需求。
（2）為(wèi)光(guāng)學元件(jiàn)加©&™∞工(gōng)提供高(gāo)效的(de)光(↓≥>guāng)敏化(huà)學解決方案。
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