| 英文(wén)名稱 | (4-cyclohexylphenyl)di ✔phenylsulfonium 1,1,2,2,3,3σ>±,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfo •"nate |
|---|---|
| 中文(wén)名稱 | 電(diàn)子(zǐ)級 全氟丁基磺酸-4-環己基苯基二苯基硫鎓$↕ε鹽 |
| CAS号 | 425670-64-0 |
| 産品編号 | YH82007 |
| 分(fēn)子(zǐ)式 | C28H25F9O3S2 |
| 分(fēn)子(zǐ)量 | 644.61 |
| 英文(wén)名稱 | (4-cyclohexylphenyl)di ✔phenylsulfonium 1,1,2,2,3,3σ>±,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfo •"nate |
|---|---|
| 中文(wén)名稱 | 電(diàn)子(zǐ)級 全氟丁基磺酸-4-環己基苯基二苯基硫鎓$↕ε鹽 |
| CAS号 | 425670-64-0 |
| 産品編号 | YH82007 |
| 分(fēn)子(zǐ)式 | C28H25F9O3S2 |
| 分(fēn)子(zǐ)量 | 644.61 |
電(diàn)子(zǐ)級全氟丁基磺酸-4-環己基苯基二苯基硫鎓鹽是(shì)一(yī)種高(gāo)純度光(guāng)敏化≈→(huà)合物(wù),廣泛應用(yòng)于半導體(tǐ)光(guāng)刻> 膠材料和(hé)微(wēi)電(diàn)子(zǐ)制(zhì)造。該化(hδ↓ uà)合物(wù)以其優異的(de)化(huà)學穩定性和(hé)γ>↑光(guāng)響應性能(néng)滿足先進工(gōng)藝的(de)嚴苛需求"♥§,适用(yòng)于深紫外(wài)(DUV)和(hé)極紫外(wài)(EUV)光(guāng)刻技(jì)術(shù)。
如(rú)果需要(yào)了(le)解更多(duō)産品÷β$信息請(qǐng)通(tōng)過微(wēi)信或 π QQ與我們取得(de)聯系,我們的(de)團隊将為(wè×÷≤i)您提供一(yī)對(duì)一(yī)的(de)咨詢服務。
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【物(wù)理(lǐ)性質】
基本信息
(1)分(fēn)子(zǐ)式:C28H25F9O3S2
(2)分(fēn)子(zǐ)量:644.61 g/mol
外(wài)觀與純度
(1)外(wài)觀:白(bái)色至淺黃(huáng)色結晶粉₩≥末。
(2)純度:≥99.5%(電(diàn)子(zǐ)級)。
物(wù)理(lǐ)參數(shù)
(1)熔點:150–180°C。
(2)溶解性:易溶于乙腈、丙酮等極性有(yǒu&≈)機(jī)溶劑。
(3)熱(rè)穩定性:高(gāo)溫條件(jiàn)下(xià)不(bù¶♦←♦)易分(fēn)解。
(4)光(guāng)化(huà)學活性:在深紫外(wài)光(guā Ωng)區(qū)域具有(yǒu)良好(hǎo)的(de)光(g¥♠Ωuāng)敏響應。
【應用(yòng)領域】
半導體(tǐ)光(guāng)刻工(gōng)藝
(1)用(yòng)作(zuò)光(guāng)刻膠中的(de)陽離(lí)子(z≥₩™&ǐ)光(guāng)引發劑,增強光(guāng)刻膠的(d♣'e)化(huà)學放(fàng)大(dà)效果。
(2)适用(yòng)于深紫外(wài)和(hé)極紫外(wài)工(gō↔<ng)藝中的(de)高(gāo)精度光(guāng)刻應用(yòng)$≤↕。
電(diàn)子(zǐ)封裝材料
(1)在電(diàn)子(zǐ)封裝中用(yòn₩"•↓g)作(zuò)抗蝕劑,提高(gāo)絕緣性→★能(néng)與耐熱(rè)性能(néng)。
(2)支持高(gāo)密度集成電(diàn)路(lù)(IC)封裝的(de)加工(gōng)需求。
功能(néng)性塗層開(kāi)發
(1)用(yòng)于光(guāng)學塗層材料,提升耐候性和(héφ•≠)光(guāng)學透明(míng)度。
(2)在顯示屏行(xíng)業(yè)中用(πyòng)于生(shēng)産低(dī)反射、高(gāo)透光(guāng✔→ε)率的(de)保護塗層。
【總結】
電(diàn)子(zǐ)級全氟丁基磺酸-4-環己基苯基二苯基硫鎓鹽因其高(gāo)純度和(hé)優異的(de)光ε© ♠(guāng)化(huà)學性能(néng),是(shì)現(xiàn)₩↓'代半導體(tǐ)制(zhì)造與光(guāng)刻技∑& ∏(jì)術(shù)的(de)重要(yào)基礎材料,₹≠$≈為(wèi)提升生(shēng)産效率和(hé)精密度提供了(l✘εe)保障。